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金属硅的性能及耐火材料在使用中的转化机理
发表时间:2018-06-25     阅读次数:     字体:【

一、简介
金属硅又称结晶硅工业硅,其主要用途是作为非铁基合金的添加剂。金属硅是由石英和焦炭在电热炉内冶炼成的产品,主成分硅元素的含量在98%左右(近年来,含Si量99.99%的也包含在金属硅内),其余杂质为铁、铝、钙等。分子式:Si , 分子量: 28.0855。熔 点:1410℃ 。沸 点:2355℃,密 度:2.33。电阻率为2140Ω.m
金属硅的牌号:按照金属硅中铁、铝、钙的含量,可把金属硅分为553、441、411、421、3303、3305、2202、2502、1501、1101等不同的牌号
金属硅的附加产品:包括硅微粉,边皮硅,黑皮硅,金属硅渣等。其中硅微粉也称硅粉、微硅粉或硅灰,它广泛应用于耐火材料和混凝土行业
硅的性质
硅是半金属之一,旧称"矽"。熔点为1420℃,密度为2.34g/cm3。质硬而脆。在常温下不溶于酸,易溶于碱。金属硅的性质与锗、铅、锡相近,具有半导体性质。硅在地壳中资源极为丰富,仅次于氧,占地壳总重的四分之一还强,以二氧化硅或硅酸盐形式存在。最纯的硅矿物是石英或硅石。硅有两种同素异形体:一种为暗棕色无定形粉末,性质活泼,在空气中能燃烧;另一种为性质稳定的晶体(晶态硅)。一般硅石和石英用于玻璃和其它建材,优质的石英用于制作合金、金属和单晶。
硅的用途
金属硅(Si)是工业提纯的单质硅,大量用于冶炼成硅铁合金作钢铁工业中合金元素,在很多种金属冶炼中作还原剂。硅还是铝合金中的良好组元,绝大多数铸造铝合金都含有硅。硅是电子工业超纯硅的原料,超纯半导体单晶硅做的电子器件具有体积小、重量轻、可靠性好和寿命长等优点。掺有特定微量杂质的硅单晶制成的大功率晶体管、整流器及太阳能电池,比用锗单晶制成的好。非晶硅太阳能电池研究进展很快,转换率达到了8%以上。硅钼棒电热元件最高使用温度可达1700℃,具有电阻不易老化和良好的抗氧化性能。用硅生产的三氯氢硅,可配制几百种硅树脂润滑剂和防水化合物等。此外,碳化硅可作磨料,高纯氧化硅制作的石英管是高纯金属冶炼及照明灯具的重要材料。 八十年代的纸张--硅 人们称硅为"八十年代的纸张"。这是因为纸张只能记录信息,而硅不仅能记载信息,还能对信息进行处理加工以获得新的信息。1945年制造的世界上第一台电子计算机,装有18000个电子管、70000只电阻、10000只电容,整个机器重30吨,占地170平方米,相当于10间房子大小。而今天的电子计算机,由于技术的进步和材质的改善,在一个指甲盖大小的硅片上,可以容纳上万个晶体管;并且有输入、输出、运算、存储和控制信息等一系列功能。 微孔硅钙保温材料微孔硅钙保温材料是一种优良的保温材料。它具有热容量小、机械强度高、导热系数低、不燃烧、无毒无味、可切割、运输方便等特点,可广泛用于冶金、电力、化工、船舶等各种热力设备及管道上。经测试,节能效益优于石棉、水泥、蛭石和水泥珍珠岩等保温材料。特种硅钙材料可用作催化剂载体,在石油炼制、汽车尾气净化等多方面广泛应用。
金属硅作为添加剂的机理:
添加剂能不同程度地提高试样常温耐压强度,降低显气孔率,其中舔加s粉效果最为明显.分析认为,热处理过程中Si可以与C反应生成SiC颗粒或晶须.使骨料与基质“桥接”起来或充填气孔.提高制品强度,降低气孔室。
抗氧化试验后试样的脱碳层、过菠层以及原砖层XRD分析结果显示.添加s粉试样的XP,D图谱.由XRD分析结果,可以推断舔加Si粉的试样在热处理以厦抗氧化试验过程中所进行的相关反应.在埋碳处理过程中,Si可与C或CO反应生成SiC;而在氧化气氛下,C,Si以及生成的SiC都可能与氧反应,它们与氧反应的优先次序主要取决于它们与氧亲和力的大小.在本试验条件下,经热力学计算,Si优先于C与氧反应,可起到保护C不被氧化的作用;而SiC与氧亲和力则小于C.这就是在过渡层中没有发现Si,而有SiC存在的原因.过渡层与脱碳层物相的差异还体现在脱碳层有A1203·SiO2新的物相生成.分析认为,Si与氧反应所生成气相SiO(以及SiC与氧反应的产物)沿气孔通道向外扩散,进一步被氧化成SiO2,进而与A12O3反应生成A1203·SiO2,这些产物的形成一方面在一定程度上提高了试样的耐压强度,另一方面堵塞了气孔,延缓了试样的氧化速度。
Si在材料中首先发生反应:
Si (s) +C (s) +O2 ( s) = SiO (g) +CO (g)
而后,反应产生的CO 又可使SiO ( g)进一步氧化成SiO2 :
SiO (g) +CO (g) = SiO2 (s) +C (s)

 
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